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ASMLクライアント群管理機会ウェインAllan実行副総裁顧客は公開投資家日仮想ASML雑談2021をサポートしています


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公共設置基礎管理設置基礎収入は約12%の年複合成長率(CAGR)(2020-2025年) 価値に基づくサービスモードの追加生産力と性能アップグレードはリソグラフィはウエハ工場の制約要素であるため、毎日の良質ウエハを最大限に高めることはウエハ工場の資本資産利用率を最適化し、顧客投資収益率を高める肝心な サービス価値は3つの基本原則に依存する:-高可用性と最低可能な各ウエハサービスコスト-毎日最大優良ウエハのアップグレードは未来の肝心なノードにシステム出力を改善し、ツールの使用寿命を延長する有効な手段を提供した。2021年スライド2


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顧客群ビジネスの成長は、サービス価値の高可用性と最小の長期停止コストを最大限に実現し、1チップ当たりのサービスコストが最低1日最大品質のウェハをアップグレードすることで設備の使用寿命を延長する


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クライアント群収入がASML業務クライアント群収入に占める割合はますます大きくなり,約12%の複合年間成長率 (2020-2025)ASMLスライド4 9月29日の増加が予想される.2021年顧客群収入8ユーロ)6-7(B 6収入4 2 0 2015 2016 2017 2018 2019 2020*2021 2025中国欧州台湾米国シンガポール韓国日本*2021 財務対外発表業績/展望,2025財務投資家日


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サービスとアップグレードはDUVツールのライフサイクル内の価値と寿命を延長し、顧客群の収入はシステム販売スライドの5月29日の約130%を占めた。2021例:NXT:1960デュアルアップグレード/オプション収入+130%パフォーマンス、生産効率および寿命延長DUV:サービス収入スキャナとレーザーのサービス契約、光学サービス、 位置調整システム収入2009 2010 2011 2012 2013 2014 16 2017 2018 2019 2020 2021 22 2023 2024 2025 2026 2027 2029 2030 2031 2032 2033 2034 2036 2037 2038製品成熟度 パブリック


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顧客群ビジネスの成長は、サービス価値の高可用性と最小の長期停止コストを最大限に実現し、1チップ当たりのサービスコストが最低1日最大品質のウェハをアップグレードすることで設備の使用寿命を延長する


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FABは、リソグラフィ可用性の向上がスライド7 29に投資する9月29日の顧客のリターンを増加させるため、リソグラフィ設計を採用している。2021年の典型的なEUVウェハデバイス制限パレート可用性緩衝能力予測資本支出1%改善生産能力Fabタイプ(開始/月)合計(FAB+NXT(DUV)in FAB資本出力資産 利用デバイス)NXE+NXT(EUV)DUV Logic 100 kユーロ16 Bユーロ160 W EUV Logic 100 Kユーロ24 Bユーロ240 M 1 1 2 1 1 1 2 XTソース:ASML市場研究からの資本支出nxe NXT他の湿式エッチング石膏CVD CPVD炉 Asher Face Loは設計上の制限である。FABの残りの部分はバッファ容量を有するため、リソグラフィ可用性の向上は、FAB全体の資本資産利用率を著しく向上させる:LITHO制約


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FABはリソグラフィ可用性の向上がスライド8 29 9月29日に投資する顧客のリターンを増加させるため、リソグラフィ設計を採用している。2021典型的なEUVウエハデバイス制限パレート可用性緩衝能力予想資本支出1%改善能力一括Fabタイプ(開始/月)合計(FAB+NXT(DUV)in Fab資本出力資産 利用デバイス)NXE+NXT(EUV)DUV Logic 100 Kユーロ16 Bユーロ1.6億W EUV Logic 100 Kユーロ24 Bユーロ240 M 1 1 2 2 1 1 1 2
出典: ASML市場研究会社の資本支出:NXE NXT OTHER WEET:エッチング石膏CVD PVD炉灰炉石膏は設計上の制限要素である。フォトリソグラフィ利用可能性の1%の向上は、Fabの残りの部分が緩衝能力を有するので、Fab全体の資本資産利用率の著しい向上をもたらすことができる


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FABはリソグラフィ設計を採用しており,リソグラフィ可用性の向上により9月29日の投資スライドへの顧客のリターンが増加する。2021年の典型的なEUVウエハ装置制限パレート長期停止(XLD)バッファ容量推定資本支出50%-XLD容量単位で体積を製造--バッファ容量タイプ (開始/月)合計(FAB+NXT(DUV)押し10%~15%の出資率)NXE+NXT(EUV)DUV Logicの後100 Kユーロ16 Bユーロ2 Bユーロ140-210 M W EUV Logic 100 Kユーロ24 Bユーロ6 Bユーロ180-270 M 1 1 2 2 1 1 1 2 XTソース:ASML市場研究会社の資本支出nxe NXT他の湿式法|エッチングリソグラフィCVD PVD炉灰炉の長期停止の減少は、非リソグラフィワークステーションの過剰生産能力の需要を減少させ、資本支出を節約した。長期停止50%減少はバッファ容量を約10%-15%減少させる可能性がある:公共


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顧客サービス価値は3つのファンダメンタルスライド10/29に依存する2021年の高可用性と最小の長期停止コストユーロ最低の1チップあたりのサービスコストは1日最高良品ウエハ


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高可用性および最小の長期停止回数スライド11月29日。2021年DUV:平均可用性>97%の成熟プラットフォーム 1%+可用性改善可能性1%+EUV機会EUVの改善:比較的未熟なプラットフォーム、より大きな7%+7%の機会があります+可用性改善機会の重要な改善:設計 ソフトウェアアップグレード使用技術サービスを改善するための私たちのシステム部品およびツール可用性運営改善:駅から駅まで 標準化により定義されたベンチマークシステム停止時間2021年6月7月8月に実際に公開された13週間移動平均値


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各ウエハスライドの最低サービスコストは12月29日2021 DUV EUV~ -20%~30%現在の2025年現在の2025年の業績目標業績目標達成機械(閉ループフィードバックプロセスを完備して部品、ツール、およびサービス行動を改善するための)技術(例えば、診断、遠隔専門家サポート)自動化サポートの標準化プロセスは、部品寿命および品質物流を向上させる:運賃、倉庫コストを低減する


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顧客の毎日の品質を最大限に向上させ,システム停止時間スライド13/29を最大限に削減することが続いた.2021年100% 100%システム停止時間顧客ニーズに応じてサービス標準化を提供>97%プロセスの非効率的な定義に固有であり、例えば、システム停止は、クライアント仕様、システム停止後の層同定、欠陥監視、およびより多くのコンテンツを満たすために使用される>90%-95%>85%-90%システムの正常動作時間に顧客ウエハを生産できる製品履歴サービスモード:新しいサービスモード:スキャナ可用性を最大限に向上させ、毎日の良好なウエハ生産量を最大限に向上させる


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3つのファンダメンタルズを推進する例の概要スライド14,29,92021ユーロの基本的な側面[br}可用性と良好なウエハコストは毎日の長期停止コストを低下させ、システム能力Top Xを高め、モジュール/部品ライフサイクル管理を持続的に改善し、プラットフォーム間の汎用性維持後のシステムの自動回復/校正を利用して回復を改善し、部品交換後のプロセス指紋変更を回避し、プロセス能力を改善し、監視能力を改善し、機械学習を利用して予測性維持を行い、ローカル地方事務所の診断能力(確定性診断)自給自足を改善した肩を越える拡張現実の遠隔サポートオンライン欠陥 監視と制御ポリシースキャナマッチングを使用してアライメントマークを改善してトラック遅延を最適化してコストを低減運賃コストを低減動的在庫ポリシーによる在庫標準化と最適化プロセス 構成管理を改善し、再使用を改善することによって過剰を減少させ、時代遅れにしてローカルメンテナンスセンター共通を構築する


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技術革新は、サービスASML遠隔専門家サポートを改善しており、専門家を現場に仮想的に接続するスライド15/292021年新冠肺炎旅行制限と検疫要求は専門家のリアルタイムデータ接続領域に対する飛行支援 と肩を越えるHoloLensは現実技術を強化してより速いサービス回復周期時間を支持し、直ちに工場の専門家に連絡し、サービス事故を減少し、予防性メンテナンスを改善し、能動的にツールの運行状況を監視し、現場の予測性維持路線図を強化することができる


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スライド16 9月29日2021年公衆


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技術革新は、可用性を向上させ、長期停止を減少させ、コストを低下させるために診断を使用して9月18日29日にサービスを改善している。2021反応性診断状態知能診断監視診断行動計画機械停止データ自動監視モード認識相互確定性検出リアルタイム障害 故障モードフローを決定して、エンジニアにフィードバックサイクルで健康診断を能動的に診断するように指示健康診断監視分析行動計画データ機械リスク自動化FAB動作状態人工知能および知識に基づく対話型決定性監視は、プロセスを決定して、プロセスを決定して、エンジニアに修正措置の循環公開を指示するために、相互決定性検出リアルタイム障害 で障害モードフローを決定する


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NXTを向上させる:1980 Diマシン生産性をメモリクライアントスライド19/29上で。2021年スキャナの平均生産量(Br)改善内訳5,300 5,300 5,100 5,150 350 y da 4,700日4,500 250 4,500 1枚あたりのウエハ生産効率顧客の生産力を向上させた顧客の第1四半期第2四半期第3四半期製品パッケージ利用可能機チームは、機械チーム四半期後にプロジェクト基準設定が発売された後、ベースラインのより高い利用率の公共利用率を計画することを許可した


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顧客群業務の増加によりサービス価値の最大化高可用性と最小の長期停止コストを実現し、各ウエハのサービスコストを最小にし、毎日最大良品ウエハをアップグレードすることにより設備の使用寿命を延長する


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アップグレードタイプと購買行動スライド21/292021年のアップグレードは相対的に迅速かつ経済的に効率的な方法であり、工場のリソグラフィ出力と処理能力を高めることができる。イメージングとカバーの生産力。ライフサイクルを延長して工場利用率を延長してインストールアップグレードの能力を決定する。ソフトウェアアップグレードは迅速な改善を提供し、常に需要の中にある。ハードウェアアップグレードにはより長い停止時間が必要であり、利用率が低い時にはより高いことが要求される


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システムノード拡張パケット(SNEP)のアップグレード既存のスキャナを再使用して、より先進的な技術を実現するノードスライド22 29 92021年にSNEPはNXT:1960とNXT:1980...を同じカバー…し、6週間以内に現場アップグレードにより28%の性能生産性を向上させ、295 wph+28% 非接触部品カバー型パネルを交換して部品露光ユニット右左LMA UECB機械を交換し、ホースEUケーブルRHバンドルDynamic Rema EセンサElec Lens EUBundleSロボット転塔Rema Rema T連通 FLG PSE PSE MMA Factory NXT:1980 Di 230 wph NX CHAクランプMasu HPR照明LCBCR Flexray向上光路Elec-CO 2-SHB-RTR CRTR SPOICOCRTR SPICR OCRTR SPICR OCTR SPRTR[NM]虹彩レンズ最上層微小環境SSエンコーダ洗浄E CTSS ct PRレンズRCXUビーム照明器io GCU LOADPORT E−box sNEXZ LS Lm n SHB−E RS RSSU reco pl Flexwave NPU EIM MMCR BF 2 MF ADE a IH供給ファイアウォール排気DC t+Smash合成器多重分解器e SCCB OADB AM PALスペーサ板カップ地下鉄DU熱交換器WH AIR WTC LSPH ULS AG AGフレームVAC WAC XCDA 1 IMCRカバーWH RA LBCフレームCO 2ヒータビーム記憶ユニットWAWシャワーロボットPM-1-2専用ドッキングユニットEscal TISパリEscal EscalパリEscal EscalGH AMCR PAモジュールLOS SS WT LOS SS WTビームRI左側オペレータWH SMA処理キャビネットWS BAMO LSPUユニットは、M M CA CTCP CA Fabにステアリングする。大動脈br}亜型を配達する。Cレーザビーム-拡張ビームLCWC UPW WVCC MDSRC XCHA AERC RSRC PEファンL NXT:1960 BiNXT:1980 Di+PEP RCWCセキュリティビームWSRC 1 WSRC 2 ACC SARC SHB-シャッターステアリング空制御SMAユニットキャビネットRCOA LICB CHA 共通


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クライアント群管理キー情報スライド23 9月29日2021年の顧客群収入は約12%増加すると予想される 価値に基づくサービスモード及び仕事効率と性能アップグレードによって、リソグラフィは製造工場の制約要素であるため、毎日の良質ウエハを最大限に高めることは製造工場の資本資産利用率を最適化し、顧客投資リターンを増加させる肝心なbr顧客サービス価値は3つの基本原則に依存する:-高可用性と最小の長期停止時間;最低可能な各ウエハサービスコスト;毎日最大品質のウエハアップグレードは1種の有効な手段を提供し、システム出力を改善し、ツールの未来の公共ノードに対する使用寿命を延長する


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前向き陳述スライド24/292021本プレゼンテーションには、予想される純売上高、毛金利、研究開発コスト、SG&Aコストおよび有効税率、2025年の年間収入機会、2025年の財務モデルと仮定、予想成長率と駆動要因、予想成長(2020-2025年と2020-2030年の成長率を含む)、潜在市場総量、2025年以降の成長機会とリソグラフィ、計量·検出システムの予想年間成長率、および設置基地管理の予想年間成長率を含む予想業界およびビジネス環境傾向に関する陳述が含まれる。2030年までのアドレス指定可能市場の予想傾向、論理およびメモリの予想傾向、収入機会、長期成長機会と見通し、需要および需要駆動要因の予想傾向、システムおよびアプリケーションの期待利益と性能、半導体端末市場傾向、半導体業界の予想成長、予想需要増加と今後数年間の資本支出、予想ウエハ需要増加とウエハ生産能力への投資、予想されるリソグラフィ市場需要と成長と支出、成長機会および駆動要因、EUVおよびDUV需要の予想傾向、販売、見通し、路線図、機会および生産能力の増加、および予想されるEUV採用、収益力、可用性、生産性と生産量および予想されるウエハ需要と価値向上、応用業務の期待傾向、設置基礎管理の期待傾向(予想収入と目標利益率を含む)、応用業務の期待傾向と増加機会、 に関する期待高正味現在価値、生産能力増加の期待、計画、戦略および戦略優先事項と方向、需要を満たすために生産能力、生産量および生産量を増加させる期待、ムーアの法則の変化を継続する期待、製品、技術、顧客路線図、および資本分配政策、配当および株式買い戻しに関する声明と意図、株式買い戻しと増加し続ける年間化配当金を介して株主に大量の現金を返す意図、およびESG承諾、持続可能な発展戦略、目標、措置、マイルストーンに関する声明を含む。これらの陳述は、一般に、可能性、すべき、プロジェクト、予想、予想、予測、潜在、志向、継続、目標、未来、進行、目標、これらの語、または同様の語の変異体を使用することによって識別することができる。これらの 陳述は歴史的事実ではなく、私たちの業務と未来の財務業績に対する現在の期待、推定、仮説と予測に基づいており、読者はそれらに過度に依存してはならない。展望性 陳述は未来の業績を保証できず、大量の既知と未知のリスクと不確定性に関連している。これらのリスクと不確定性は、経済状況、製品需要と半導体設備業界の生産能力、全世界の半導体需要と生産能力の利用率、半導体端末市場の傾向、全体の経済状況が消費者自信と顧客製品需要に与える影響、私たちのシステムの性能、新冠肺炎疫病が世界経済と金融市場に与える影響及び抑制措置を含むが、これらに限定されない, ASML及びその顧客及びサプライヤー、並びにASMLの販売及び毛金利に影響を与える可能性のある他の要因は、顧客需要及びASMLがその製品の供給を得る能力、研究開発計画及び技術進歩の成功、並びに新製品開発の速度及び顧客の新製品に対する受け入れ及び需要、生産能力及び需要を満たすための生産能力の向上、発注、出荷及び収入確認システムの数量及び時間、並びに注文キャンセル又は延期のリスクを含む。我々のシステムの生産能力は、システム生産とサプライチェーン生産能力遅延のリスク、制限、不足と中断、半導体業界の傾向、私たちが特許と知的財産権を保護する能力及び知的財産権紛争と訴訟の結果、原材料、肝心な製造設備と合格従業員の可用性及び労働市場の傾向、地政学的要素、貿易環境を含む。輸出入および国家安全規制および注文およびそれが私たちに与える影響、持続可能な開発目標を達成する能力、為替レートおよび税率の変化、利用可能な流動性および流動性要件、債務再融資のための私たちの能力、配当支払いおよび株式買い戻しに利用可能な現金および分配可能な備蓄、ならびに配当支払いおよび株式買い戻しに影響を与える他の要因、株式買い戻し計画の結果、およびASMLの12月31日までの年間20-F表に含まれるリスク要因に示される他のリスク要因, 2020年にアメリカ証券取引委員会に提出された他の書類と書類。これらの前向きな陳述は,本文書の発行日からのみ行われる.法律の要件を除いて、私たちは、本報告日の後に任意の前向きな陳述を更新すること、またはそのような陳述を実際の結果または修正された予想に適合させる義務がない。公衆


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2021年投資家デー仮想ASML